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磷化铟晶片

产品应用

材料特点:InP具有电子极限漂移速度高、耐辐射性好、导热好的优点。适用于制造高频、高速、大功率微波器件和集成电路。

主要应用:5G通信是具有高速率、低时延和大连接特点的新一代宽带移动通信技术,是实现人机物互联的网络基础设施;汽车雷达领域用在发现障碍物、预测碰撞、自适应巡航控制、微波雷达等在汽车雷达中有着重要应用。

 

产品指标

晶体电学参数

掺杂

导电类型

载流子浓度

(cm-3)

迁移率

(cm2V-1s-1)

位错密度

(cm-2)

非掺

n-型

≦3x1016

(3.5- 4) ´103

≤2000

掺S

n-型

(0.8-6)x1018

(1.5-3.5) ´103

≤2000;

掺Zn

p-型

(0.6-6)x1018

50-70

掺Fe

半绝缘

电阻率

>1´107 W.cm

>2000

≤2000;

 

晶片加工技术参数

规格

2"

3"

4"

直径(mm)

50.5±0.5

76.2±0.5

100.0±0.5

厚度(um)

350±25

600±25

600±25

晶向

(100)/(111)

(100)/(111)

(100)/(111)

晶向偏差

±0.5º

±0.5º

±0.5º

主定位边长度(mm)

16±2

22±2

32.5±2

副定位边长度(mm)

8±1

11±1

18±1

平整度TTV(um)

<10

<10

<15

弯曲度Bow(um)

<10

<10

<15

翘曲度Warp(um)

<15

<15

<15

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PEODUCT CENTER